Double Side Lapping/Polishing Machine
特徴
◆低振動設計
◆割れやすくて薄いアプリケーションの加工に最適
◆Hydro-Static(静圧) Facing装置適用 - DMP
◆Self Re-conditioningによる時間節約 - DMP
◆最高の圧力分解能&実際の圧力ディスプレイ
◆最適化されたプログラムを提供
◆定盤冷却システム
適用分野
◆Wafers (Si, Sic, Ceramic, GaAs, Etc)
製品紹介
Introducing AM Technology co., Ltd., a global leader in semiconductors and precision equipment.
◆低振動設計
◆割れやすくて薄いアプリケーションの加工に最適
◆Hydro-Static(静圧) Facing装置適用 - DMP
◆Self Re-conditioningによる時間節約 - DMP
◆最高の圧力分解能&実際の圧力ディスプレイ
◆最適化されたプログラムを提供
◆定盤冷却システム
◆Wafers (Si, Sic, Ceramic, GaAs, Etc)
Model |
ADP-1605(DMP) |
ADP-1605(CMP) |
||||
Wheel Diameter | mm |
Ø1150 |
Ø1154 |
|||
Carrier Size | mm | 16B 5L | 16B 5L | |||
Max. Load Pressure | kgf |
1000 |
1000 |
|||
Upper Wheel | Drive | kW |
11 |
11 |
||
Speed |
rpm |
40 |
40 |
|||
Lower Wheel | Drive | kW |
11 |
15 |
||
Speed | rpm |
40 |
40 |
|||
Inner Gear | Drive | kW | 3 | 3 | ||
Speed | rpm |
25 | 25 | |||
Outer Gear | Drive | kW | 3 | 3 | ||
Speed | rpm | 13 | 13 | |||
Dimension | mm | 1820*3050*2520 | 1820*2730*2520 | |||
Weight | kg | 8000 | 7500 |
이메일주소 무단수집을 거부합니다.
본 웹사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나 그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며, 이를 위반시 정보통신망법에 의해 형사 처벌됨을 유념하시기 바랍니다.