Double Side Lapping/Polishing Machine
특징
◆저진동 설계
◆깨지기 쉽고 얇은 어플리케이션 가공에 최적화
◆Hydro-Static(유정압) Facing 장치 적용 - DMP
◆Self Re-conditioning을 통한 시간절약 - DMP
◆최고의 압력 분해능&실제 압력 디스플레이
◆최적화된 프로그램 제공
◆정반 냉각 시스템
적용분야
◆Wafers (Si, Sic, Ceramic, GaAs, Etc)
제품소개
반도체, 정밀 장비 분야의 글로벌 리더 에이엠테크놀로지(주)를 소개합니다.
◆저진동 설계
◆깨지기 쉽고 얇은 어플리케이션 가공에 최적화
◆Hydro-Static(유정압) Facing 장치 적용 - DMP
◆Self Re-conditioning을 통한 시간절약 - DMP
◆최고의 압력 분해능&실제 압력 디스플레이
◆최적화된 프로그램 제공
◆정반 냉각 시스템
◆Wafers (Si, Sic, Ceramic, GaAs, Etc)
Model |
ADP-1605(DMP) |
ADP-1605(CMP) |
||||
Wheel Diameter | mm |
Ø1150 |
Ø1154 |
|||
Carrier Size | mm | 16B 5L | 16B 5L | |||
Max. Load Pressure | kgf |
1000 |
1000 |
|||
Upper Wheel | Drive | kW |
11 |
11 |
||
Speed |
rpm |
40 |
40 |
|||
Lower Wheel | Drive | kW |
11 |
15 |
||
Speed | rpm |
40 |
40 |
|||
Inner Gear | Drive | kW | 3 | 3 | ||
Speed | rpm |
25 | 25 | |||
Outer Gear | Drive | kW | 3 | 3 | ||
Speed | rpm | 13 | 13 | |||
Dimension | mm | 1820*3050*2520 | 1820*2730*2520 | |||
Weight | kg | 8000 | 7500 |
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