Single Side Polishing Machine
특징
◆견고한 구조
◆Block Index System 적용
◆최적화된 DMP/CMP Software
◆5단계의 압력, 속도, 시간 조절
◆유정압 방식 Facing System 적용 (DMP M/C)
◆자동 Pad Cleaning System 적용 (CMP M/C)
적용분야
◆Wafers (Si, Sic, Ceramic, GaAs, Etc)
제품소개
반도체, 정밀 장비 분야의 글로벌 리더 에이엠테크놀로지(주)를 소개합니다.
◆견고한 구조
◆Block Index System 적용
◆최적화된 DMP/CMP Software
◆5단계의 압력, 속도, 시간 조절
◆유정압 방식 Facing System 적용 (DMP M/C)
◆자동 Pad Cleaning System 적용 (CMP M/C)
◆Wafers (Si, Sic, Ceramic, GaAs, Etc)
Model |
36B4R |
50B4R |
|||
Ceramic Jig Size |
Ø360 |
Ø485 |
|||
Plate |
Size | DMP |
Ø910mm |
Ø1250mm |
|
CMP |
Ø910mm |
Ø1270mm |
|||
Material | DMP |
Pure/Resin copper, Metal Tin |
|||
CMP |
Stainless Steel | ||||
Wheel Spindle | DMP |
11kW |
20kW |
||
CMP |
15kW | 25kW | |||
Pressure Unit | Cylinder | 4 station | |||
Auto Facing Unit for | RPM | Min. 1mm/min~Max. 300mm/min | |||
Dimension | DMP | 1430(W) * 2340(D) * 2002(H)mm | 2260(W) * 3244(D) * 2830(H)mm | ||
CMP | 1430(W) * 1620(D) * 2162(H)mm | 2120(W) * 2700(D) * 2863(H)mm | |||
Weight | DMP | Approx. 3500kg | Approx. 7000kg | ||
CMP | Approx. 2500kg | Approx. 7000kg |
이메일주소 무단수집을 거부합니다.
본 웹사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나 그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며, 이를 위반시 정보통신망법에 의해 형사 처벌됨을 유념하시기 바랍니다.